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納米研磨機(jī)是新材料制備核心設(shè)備,通過研磨腔體內(nèi)高速運(yùn)動(dòng)的研磨介質(zhì)(如氧化鋯珠),對(duì)物料產(chǎn)生撞擊、剪切與研磨作用,將物料細(xì)化至納米級(jí)。可精準(zhǔn)控制粒徑,獲窄分布體系,適配高粘度物料,且具備溫控、防污染設(shè)計(jì)。廣泛用于涂料、醫(yī)藥、新能源等領(lǐng)域,助力提升產(chǎn)品性能。
納米研磨機(jī)
如研磨 納米氧化鋁,納米氧化鋅,納米氧化鈰,納米氧化鐵,納米氧化鉍,納料ATO合金等產(chǎn)品。納米金屬粉體、碳納米管、高純Al2O3、高純納米TiO2系列粉體、超活性納米TiO2催化劑、納米TiO2液體、納米TiO2銀抗菌劑、納米高純ZrO2、超細(xì)高純ZrO2、納米涂層材料、納米載銀抗菌粉、納米SiO2、納米ZnO、光觸媒

是SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
1 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
能量傳遞:電機(jī)驅(qū)動(dòng)研磨腔(如臥式 / 立式腔)內(nèi)的攪拌器(或轉(zhuǎn)子)高速運(yùn)轉(zhuǎn),帶動(dòng)研磨介質(zhì)(氧化鋯珠、瑪瑙珠等)做劇烈運(yùn)動(dòng),產(chǎn)生動(dòng)能;
物料細(xì)化:高速運(yùn)動(dòng)的研磨介質(zhì)與物料碰撞、剪切,同時(shí)物料在介質(zhì)間隙中受擠壓、摩擦,團(tuán)聚顆粒被破碎、剝離,逐漸細(xì)化至納米級(jí);
精準(zhǔn)控質(zhì):通過分離裝置(如動(dòng)態(tài)分離器)攔截研磨介質(zhì),讓細(xì)化后的物料持續(xù)排出,同時(shí)可調(diào)控轉(zhuǎn)速、介質(zhì)粒徑等參數(shù),保證物料粒徑均勻且穩(wěn)定。

GMSD2000設(shè)備參數(shù)表:
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||
