二氧化tai研磨分散機(jī)

【SID工業(yè)設(shè)備用于二氧化tai分散和研磨的優(yōu)點(diǎn)】

一、縮短工藝時(shí)間。SID高剪切乳化分散設(shè)備可以迅速地混合分散二氧化tai粉末，并消除結(jié)塊和團(tuán)聚。SID也提供PLD和PLC粉體/液體混合機(jī)，將粉體直接加入液體，無需循環(huán)處理，一次性通過便可成型。

二、提高品質(zhì)。SID高剪切混合機(jī)可以打碎結(jié)塊粉體，并與液體充分混合。這樣可以改善產(chǎn)品光澤和透明度，這兩個(gè)特征由分散好壞直接決定。

三、減少資金投入。SID磨機(jī)可以程度縮小粒徑，達(dá)到窄粒徑分布。SID分散研磨設(shè)備的流量比同類研磨設(shè)備高出很多，但也可達(dá)到相類似的效果。模塊化設(shè)計(jì)的SID 2000系列產(chǎn)品，可以幫助客戶節(jié)約資金投資。

【SID研磨分散機(jī)的簡(jiǎn)介】

GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

【SID研磨分散機(jī)的簡(jiǎn)介】

GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

二氧化tai研磨分散機(jī)設(shè)備參數(shù)表：